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Moto3, turno difficile per Bastianini alle prese con la pista bagnata

Il pilota riminese: "sappiamo che durante tutto il weekend dovremo fare i conti con la pioggia, per cui ci concentreremo per mettere a punto l’assetto per queste condizioni"

La prima giornata di prove libere del Gran Premio delle Americhe, sullo spettacolare Circuit of the Americas, alle porte di Austin, in Texas, ha visto grandi protagonisti entrambi i piloti del Gresini Racing Team Moto3: al termine delle prime due sessioni di prove libere, disputate entrambe su asfalto bagnato, Andrea Locatelli e Enea Bastianini sono infatti risultati rispettivamente il secondo e il settimo pilota più veloce nella classifica combinata. Già terzo nel turno mattutino, Locatelli ha poi siglato il tempo di 2’29”305 allo scadere della seconda sessione, battuto soltanto dal francese Alexis Masbou per soli 38 millesimi di secondo. Il suo compagno di squadra, Bastianini, apparso più in difficoltà con l’asfalto molto bagnato al mattino, è risalito al settimo posto nel pomeriggio col tempo di 2’30”882.

“Il turno del pomeriggio - ha commentato Enea Bastianini - non è andato affatto male, anche se non si è rivelato molto significativo, con la pista che è andata asciugandosi. Nella seconda sessione ho comunque iniziato ad acquistare feeling sul bagnato, mentre al mattino avevo faticato molto. Sappiamo che durante tutto il weekend dovremo fare i conti con la pioggia, per cui ci concentreremo per mettere a punto l’assetto per queste condizioni: non c’è molto tempo, ma possiamo farcela”. “Una prima giornata molto positiva, con Locatelli che ha tenuto immediatamente un buon ritmo sin dalla mattinata, il che dimostra quanto sia già a suo agio - ha aggiunto il patron Fausto Gresini. - Bastianini ha faticato di più a trovare il giusto feeling sul bagnato, ma nel pomeriggio ha ripreso fiducia ed è risalito bene; come sempre, Enea sta iniziando il weekend con calma. Domani molto probabilmente incontreremo ancora altra pioggia: dovremo farci trovare preparati per queste condizioni”.

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